| :: IBM busca delantera con chips de 22 nm |
 Intel y AMD están moviendo sus procesos de producción desde los 65 nanómetros a los 45. Después vienen los 32 nm, que no representan cambios sustanciales en cuanto a tecnología. Pero los 22 nm es un proceso diferente y por su parte IBM quiere tomar la delantera.
(DT, AGENCIAS) La fotolitografía utiliza una máscara para crear una sombra en un material sensible a la luz llamado resistencia, en base a esto, los circuitos son “impresos”.
En ese proceso los 22 nanómetros, “en cuanto la onda de luz tiene el mismo tamaño que aquello que intentas imprimir, todo se complica”, explica Subu Iyer, ingeniero especialista en este segmento para IBM.
El reto es utilizar una onda de luz de 193 nanómetros porque la radiación “ultravioleta extrema” no es práctica. El nuevo método de informática intensiva toma los circuitos y los transforma en un patrón sobre la máscara que permite a IBM imprimir las funciones de 22 nm con una luz de 193 nm.
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